民德电子:广芯微良性扩产良率高位稳定,适时稳步推进产品开发

2026-06-03 11:32:22 来源:市场资讯作者:公告君 中性
有投资者在互动平台向民德电子提问:“您好,董秘,请问控股子公司广芯微当前晶圆扩产及良率情况如何?高压超结MOS目前研发、送样及量产计划如何?”
针对上述提问,民德电子回应称:“您好,感谢您的提问。1、广芯微电子目前处于良性扩产中,已完成包括MOS场效应二极管(MFER)、垂直双扩散金属氧化物半导体场效应管(VDMOS)、Bipolar-CMOS-DMOS(BCD)、瞬态电压抑制二极管(TVS)、绝缘栅双极型晶体管(IGBT)等工艺平台的搭建,产品良率持续保持高位稳定,客户数量稳步增长。2、广芯微电子技术团队在基于超结结构的高压功率MOSFET关键工艺方面具备相应的技术储备,后续将结合市场需求与自身工艺特点,适时稳步推进产品开发计划。感谢您的关注!”
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关键词:工艺 良率 扩产 计划 高位