瑞丰光电申请发光装置制备方法专利,降低不同角度的色温差

2026-03-31 11:40:35 来源:市场资讯作者:情报员 利好
国家知识产权局信息显示,浙江瑞丰光电有限公司;深圳市瑞丰光电子股份有限公司申请一项名为“一种发光装置的制备方法及发光装置”的专利,公开号CN121772439A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明涉及发光装置技术领域,其特别涉及一种发光装置的制备方法及发光装置。其中,该发光装置的制备方法,通过在第一载体上形成光调整层;在光调整层背离第一载体的一面上注射匀光胶体形成匀光层;将第一载体进行翻膜操作,使匀光层背离所述光调整层的一面朝向第二载体,并与第二载体贴合;在光调整层背离匀光层的一面粘贴发光元件,并对发光元件依次进行点胶操作和固晶操作形成半封装结构;半封装结构中所述匀光层露出于外界;在半封装结构上通过注射成型工艺形成一层覆盖匀光层的封装导光层,以形成发光装置。实现了最终形成的发光装置能通过匀光层进行混光,从而降低不同角度的色温差,提升COA。
天眼查资料显示,浙江瑞丰光电有限公司,成立于2016年,位于金华市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本40000万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江瑞丰光电有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目13次,专利信息49条,此外企业还拥有行政许可22个。
深圳市瑞丰光电子股份有限公司,成立于2000年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本68621.1103万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳市瑞丰光电子股份有限公司共对外投资了21家企业,参与招投标项目19次,财产线索方面有商标信息6条,专利信息364条,此外企业还拥有行政许可73个。
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关键词:企业 发光 装置 形成 光层