国家知识产权局信息显示,武汉光迅科技股份有限公司申请一项名为“一种防止基板变形翘曲的光学镀膜方法及滤光片”的专利,公开号CN121700339A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本发明涉及光学镀膜生产技术领域,特别是涉及一种防止基板变形翘曲的光学镀膜方法及滤光片,包括:将光学滤光片的目标光谱分解成第一光谱和第二光谱;按照第一光谱设计第一膜层,按照第二光谱设计第二膜层;在基板的正面沉积第一膜层,在基板的背面沉积第二膜层,第一膜层对基板所施加的应力与第二膜层对基板所施加的应力相互抵消。将超多层膜分解成第一膜层和第二膜层,并分别在基板的正面沉积第一膜层和在基板的背面沉积第二膜层,减小了将超多层膜全部沉积在基板同一面导致的应力过大基板形变的可能,同时使第一膜层和第二膜层对基板所施加的应力接近相等,保证基板分别在正面和背面沉积完第一膜层和第二膜层后,基板保持平整。
天眼查资料显示,武汉光迅科技股份有限公司,成立于2001年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本80667.5752万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉光迅科技股份有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目2382次,财产线索方面有商标信息7条,专利信息1881条,此外企业还拥有行政许可93个。
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